Self-Aligned Silicidation = salicide
silicide 金屬矽化物 降低接觸電阻
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STI = Shallow Trench Isolation
顧名思義就是在CMOS上挖一條溝渠來做隔離,那是隔離什麼呢? 因為在CMOS上會有P+與N+結合起來的depletion region(空乏區),當P+跟N+的面積太大時,depletion region也會跟著變大,會造成chip size依舊很大,為了解決這樣的問題,在近幾年先進製程下,STI的作法就可以解決中間的depletion region過大的問題。
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